隨著電子工業(yè)的快速發(fā)展，對(duì)作為電子元器件基礎(chǔ)的印制板的需求和對(duì)加工精度的要求越來(lái)越高。URE-2000/35型紫外光刻機(jī)是印制板制造過(guò)程中的重要設(shè)備。傳統(tǒng)的光刻機(jī)在生產(chǎn)過(guò)程中需要人工吹膜，需要經(jīng)常更換薄膜。由于散熱系統(tǒng)過(guò)于臃腫，其生產(chǎn)成本高、效率低，已不能滿足PCB生產(chǎn)的需要。在實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上，設(shè)計(jì)了一種雙層玻璃干燥架光刻機(jī)，對(duì)其主要部件進(jìn)行了改進(jìn)，包括干燥架系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、電氣和控制系統(tǒng)的整體設(shè)計(jì)。

　　在計(jì)算機(jī)的控制下，URE-2000/35型紫外光刻機(jī)利用聚焦電子束對(duì)有機(jī)聚合物（通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠）進(jìn)行曝光。光刻膠改變其物理和化學(xué)性質(zhì)，在一定的溶劑中形成良好或不良的溶解區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細(xì)的圖案。
 

　　紫外投影光刻是將特定形狀的光斑投射到器件表面涂覆的光刻膠上，使光刻膠在照射區(qū)域發(fā)生化學(xué)變化，曝光顯影后可形成微米級(jí)精密圖案；進(jìn)一步的蝕刻或蒸發(fā)可以在樣品表面形成所需的結(jié)構(gòu)。UV投影光刻作為材料、器件、微結(jié)構(gòu)和微器件的常用制備技術(shù)，廣泛應(yīng)用于維納結(jié)構(gòu)制備、半導(dǎo)體器件電極制備、太赫茲/毫米波器件制備、光掩模制備、PCB制造等應(yīng)用領(lǐng)域。常規(guī)UV投影光刻機(jī)需要先制作掩膜版。耗材成本高、生產(chǎn)周期長(zhǎng)，難以滿足材料器件實(shí)驗(yàn)室對(duì)靈活性和實(shí)驗(yàn)進(jìn)度的要求。近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的無(wú)掩模光刻技術(shù)突破了這一技術(shù)局限，實(shí)現(xiàn)了任意形狀編程、自動(dòng)高精度大規(guī)模拼接無(wú)掩模光刻，隨時(shí)將您的設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為實(shí)際成品，大大縮短了開(kāi)發(fā)測(cè)試周期，強(qiáng)力輔助維納微納器件的制備。

　　URE-2000/35型紫外光刻機(jī)基于多年微納結(jié)構(gòu)制備經(jīng)驗(yàn)，自主研發(fā)高均勻度UV光源、高保真導(dǎo)光路、高精度、大行程、大承重納米平臺(tái)等核心技術(shù)，結(jié)合高度穩(wěn)定的機(jī)械結(jié)構(gòu)、自動(dòng)化和軟件設(shè)計(jì)，推出全自動(dòng)高精度無(wú)掩模光刻機(jī)。